研究機器一覧

外観 研究機器
分類
設置場所
共同利用
E00001 ドリル研磨機
HG-3
研削 実験実習工場
E00002 集塵機付レジンベルター
BY-47L
研削 実験実習工場
E00034 円筒研削装置付万能工具研削盤
M-40
研削 実験実習工場
E00036 平面研削盤
SGM-52
研削 実験実習工場
E00037 両頭グラインダ
KG-305T
研削 実験実習工場
E00038 両頭グラインダ
FG-305T
研削 実験実習工場
E00049 エアロラップ
SMAP-Ⅲ
研磨 実験実習工場
E00017 超精密高速縦型マシニングセンタ
ND80L
切削加工 D1-101
E00018 横フライス盤
HF2
切削加工 実験実習工場
E00019 簡易NC立フライス盤
SEV
切削加工 実験実習工場
E00020 1サドルCNC旋盤(複合加工仕様)
LB3000ⅡMY
切削加工 実験実習工場
E00021 横形マシニングセンタ
MA-40HA
切削加工 実験実習工場
E00022 立形マシニングセンタ
MP-46V
切削加工 実験実習工場
E00023 NC立フライス盤
FMV-30
切削加工 実験実習工場
E00024 大型NC立フライス盤
ON-3V2
切削加工 実験実習工場
E00025 CNC普通旋盤
TL-1
切削加工 実験実習工場
E00026 普通旋盤
TAL510-1000
切削加工 実験実習工場
E00027 普通旋盤
TAL510-1500
切削加工 実験実習工場
E00028 普通旋盤
TAL510-1500
切削加工 実験実習工場
E00029 小型旋盤
TSL-550
切削加工 実験実習工場 ×
E00030 対話型自動旋盤
TAC-510L15
切削加工 実験実習工場
E00031 対話型自動旋盤
TAC-510L10
切削加工 実験実習工場
E00032 シェーパー
切削加工 実験実習工場
E00004 プラズマ切断機
D-12000G
切断 実験実習工場
E00005 ファインカット
HS-45A2
切断 実験実習工場
E00006 ファインカット
HS-100
切断 実験実習工場
E00007 高速切断機
SK-300
切断 実験実習工場
E00008 高速切断機
SK-4R
切断 実験実習工場
E00009 シャーリングマシン
AAA C512
切断 実験実習工場
E00010 シャーリングマシン
OSE-1320
切断 実験実習工場
E00011 シャーリングマシン
S-2532
切断 実験実習工場
E00012 コンターマシン
LE-500
切断 実験実習工場
E00013 コンターマシン
TA500
切断 実験実習工場
E00014 プレスブレーキ
RG25
切断 実験実習工場
E00015 ノコ盤
H550E
切断 実験実習工場
E00016 レーザーカッター
SPEEDY300 FLEXX
切断 実験実習工場
E00051 簡易放電タップ除去機
タプトルF1500
穿孔 実験実習工場
E00053 ボール盤
ASD-360
穿孔 実験実習工場
E00054 ボール盤
KID420
穿孔 実験実習工場
E00055 ボール盤
KRDG-340
穿孔 実験実習工場
E00056 ラジアルボール盤
DMB
穿孔 実験実習工場
E00057 ラジアルボール盤
BR-C1250
穿孔 実験実習工場
E00266 冷間圧延機
6型2段DR圧延機
塑性加工 実験実習工場
E00003 CNCワイヤ放電コンタマシン
DKV7740
放電加工 実験実習工場
E00033 ワイヤ放電加工機
SX20
放電加工 工作支援部門棟
E00052 細穴放電加工機
ESM-8VT複合機
放電加工 工作支援部門棟
E00035 炭酸ガスレーザー加工機
L806T3+3016C
非切削加工 工作支援部門棟
E00039 CMT溶接機
TPS2700
溶接 実験実習工場
E00040 CO2/MAG溶接機
500SG
溶接 実験実習工場
E00041 TIG溶接
YC-200BR1
溶接 実験実習工場
E00042 MIG溶接機
DT-CAP2 350A
溶接 実験実習工場
E00255 交直両用パルスTIG溶接機
DA-300P
溶接 実験実習工場
E00043 ガス溶接
溶接 実験実習工場
E00044 直流移動式スポット溶接機
SW-7600/DX
溶接 実験実習工場
E00045 スタッドボルド溶接機
CD-800
溶接 実験実習工場
E00046 セルフシールドアーク溶接機
SP-100T
溶接 実験実習工場
E00047 空圧式抵抗スポット溶接機
SLAJS35-601
溶接 実験実習工場
E00048 被覆アーク溶接機
BS250
溶接 実験実習工場
E00050 放電肉盛装置
MODEL 300
溶接 実験実習工場
E00167 パワーリフター
PK-H500-15
その他 実験実習工場
E00168 昇降装置
SCL2SA
その他 実験実習工場
E00169 部品洗浄器
NKD-100
その他 実験実習工場
E00186 3Dプリンタ
ProJet3510HD Plus
その他 実験実習工場
E00251 3Dプリンタ
Ozmagic
その他 実験実習工場
E00252 3Dプリンタ
Creator Dual
その他 実験実習工場
E00253 3Dプリンタ
Creator XL
その他 実験実習工場
E00254 分光蛍光光度計
F-7000
分光分析 教育研究基盤センター224
E00110 紫外可視分光光度計
V-550
分光分析 教育研究基盤センター224
E00259 紫外可視近赤外分光光度計
UV-3600 Plus
分光分析 教育研究基盤センター224
E00256 FT-IR:顕微FT-IRスペクトル装置
FT/IR-6600
分光分析 教育研究基盤センター224
E00100 FT-IR:赤外分光測定装置
FT/IR-6100
分光分析 B2-210
E00257 GD-OES:グロー放電発光分析装置
GD-Profiler 2
分光分析 教育研究基盤センター107
E00101 ラマン分光測定装置
RFT-6000
分光分析 B2-210
E00102 レーザーラマン分光光度計
NRS-1000
分光分析 D1-401
E00103 レーザーラマン分光光度計
NRS-3100
分光分析 D1-401
E00104 顕微レーザーラマン分光光度計
NRS-1000
分光分析 D4-403
E00105 高速イメージング顕微ラマン分光システム
NRS-7100
分光分析 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00107 レーザーラマン分光光度計
NRS-3100
分光分析 B2-203
E00267 PL(フォトルミネッセンス)/RAMAN 測定装置
LabRAM HR-800
分光分析 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00111 TLCMS:薄層クロマトグラフィー飛行時間型質量分析計
JMS-T100TD
質量分析 B2-305
E00112 TOFMS:飛行時間型質量分析システム
micrOTOF-2TTUH
質量分析 B3-301
E00089 XRD:多目的X線回折装置
UltimaⅣ R185/XRD-DSC ⅡST
X線分析 B2-210
E00115 XRD:X線構造解析システム
Ultima Ⅳ
X線分析 B3-101
E00092 XRD:X線回折装置
RINT-2200
X線分析 教育研究基盤センター117
E00094 XRD:強力X線回折装置
RINT-2500
X線分析 教育研究基盤センター118
E00093 XRD:四軸型単結晶X線回折装置
RASA-7R
X線分析 教育研究基盤センター117
E00095 XPS(ESCA): X線光電子分光装置
PHI Quantera SXM-CI
X線分析 教育研究基盤センター122
E00096 XRF(EDXRF):エネルギー分散形蛍光X線分析装置
JSX-3100RⅡ
X線分析 教育研究基盤センター114
E00088 ESR:電子スピン共鳴装置
JES-X310
電子スピン共鳴 G1-501
E00097 NMR:核磁気共鳴装置
JNM-ECX500
核磁気共鳴 B2-402
E00098 NMR:核磁気共鳴装置
JNM-ECS400
核磁気共鳴 B2-402
E00099 NMR:核磁気共鳴装置
AVANCEⅢ 400
核磁気共鳴 教育研究基盤センター121
E00069 AFM:原子間力走査型プローブ顕微鏡
MFP-3D-BIO-TS
表面形状測定 総合研究実験棟101
E00079 AFM:ナノサーチ顕微鏡
SFT-3500
表面形状測定 教育研究基盤センター224
E00087 AFM/MFM:微小領域観察評価システム
NanoScope
表面形状測定 C3-101
E00153 AFM:触針式表面形状測定装置
Dektak150
表面形状測定 D1-405 ×
E00060 TEM:透過型電子顕微鏡
JEM-2100F
顕微鏡 教育研究基盤センター110
E00061 TEM:透過型電子顕微鏡
JEM-1400 Plus
顕微鏡 教育研究基盤センター114
E00073 SEM:走査電子顕微鏡
SU-1500
顕微鏡 G1-501
E00074 SEM:走査型電子顕微鏡
JSM-6300
顕微鏡 教育研究基盤センター114
E00258 SEM:走査型電子顕微鏡
JSM-IT100
顕微鏡 教育研究基盤センター114
E00076 SEM:低真空走査電子顕微鏡
SU3500
顕微鏡 教育研究基盤センター124
E00070 SEM:結晶方位解析装置付走査電子顕微鏡
JMS-6500FT
顕微鏡 総合研究実験棟201
E00064 FE-SEM:電界放出形走査電子顕微鏡
S-4800
顕微鏡 B3-101
E00066 FE-SEM:電界放射走査電子顕微鏡(FE-SEM)
JSM-6700F
顕微鏡 C2-106
E00075 FE-SEM:電界放出形走査電子顕微鏡
SU8000TypeⅡ
顕微鏡 教育研究基盤センター122
E00078 LM:光学顕微鏡
顕微鏡 教育研究基盤センター107
E00063 LSM:3D測定レーザー顕微鏡
OLS4100
顕微鏡 B3-101
E00128 CLSM:正立型共焦点顕微鏡
A1rsi-TY
顕微鏡 EIIRIS 2F バイオ実験室
E00129 CLSM:共焦点レーザスキャン顕微鏡
LSM700
顕微鏡 G-518
E00261 SEM:EDS付走査型電子顕微鏡
S-3000N:NORAN SYSTEM SIX
顕微鏡 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00263 SEM:卓上走査顕微鏡
JCM-5000
顕微鏡 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00264 デジタルマイクロスコープ
VHX-500
顕微鏡 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00131 ミクロトーム
EMFC7
顕微鏡試料作製 G-518
E00082 精密イオン研磨システム
Model691
顕微鏡試料作製 教育研究基盤センター202
E00084 薄膜断面試料作製装置
EM-09100IS
顕微鏡試料作製 教育研究基盤センター202
E00130 クリオスタット
CM3050S
顕微鏡試料作製 G-518
E00171 プラズマ焼結装置
SPS-1030
試験片作製 D1-103
E00260 粒度分布測定装置
SALD-2300
汎用化学分析 教育研究基盤センター107
E00265 ナノ粒度分析装置
NPA253
汎用化学分析 EIIRIS 2F 共同研究室5
E00175 高速比表面積細孔分布測定装置
アサップ2010
汎用化学分析 D2-502
E00147 超遠心分離機
L-100XP
汎用化学分析 G-513
E00150 構造物動的試験装置
EHV-3
構造・材料試験 環境防災棟
E00151 油圧式圧縮・曲げ試験機
WAC-200-B1
構造・材料試験 E-101
E00152 油圧式万能試験機
MRA-100-F2
構造・材料試験 E-101
E00172 熱間加工再現試験装置
THERMECMASTOR型式FTZ-502
構造・材料試験 D1-103
E00173 HPT用高次精密制御装置
REP-HPT-200-03
構造・材料試験 教育研究基盤センター115
E00125 動的粘弾性自動測定器
DDV-01FP
構造・材料試験 B3-301
E00126 動的粘弾性測定装置
Rheogel-E4000
構造・材料試験 D1-101
E00119 環境センシングメディアネットワークシステム
介護支援 情報通信実験棟208
E00120 可動式移乗介護ロボット
KER-RF3R6M-2AC
介護支援 情報通信実験棟208
E00121 褥瘡支援付パワーアシスト全方向移動介護ベッド
KER-PA4R8M-2
介護支援 情報通信実験棟208
E00122 介護訓練バーチャルリアリティーシステム
介護支援 情報通信実験棟208
E00123 吊り下げ式歩行訓練支援ロボット
KER-SP4R8M-3
介護支援 情報通信実験棟208
E00118 床反力計測システム
フォースプレート9286BA
床反力測定 情報通信実験棟208
E00158 レーザーシステム
RGL-532-1-SP
レーザー光源 D4-402
E00139 DNAシーケンサー
3130 Genetic Analyzer
バイオ関連分析 G1-304
E00140 DNAシーケンサー
3130 Genetic Analyzer
バイオ関連分析 G1-304
E00142 Ettan Spot Picker
バイオ関連分析 総合研究実験棟605
E00143 フルオロイメージアナライザー
FLA-9000 RGB
バイオ関連分析 G1-201
E00144 中高圧液体クロマトグラフィー
AKTA Explorer
バイオ関連分析 G1-201
E00146 蛍光スキャナー
Typhoon 9400D
バイオ関連分析 G-518
E00149 ペプチド精製システム
Model PLC2020
バイオ関連分析 B2-404
E00249 ペプチド合成装置
MultiPep CF
バイオ関連分析 B2-404
E00250 円二色性分散計
J-805
バイオ関連分析 B3-301
E00164 マスクアライナー
PLA-501FS
転写・焼付 C2-101
E00157 パルスレーサ・分子線蒸着複合成膜装置
PLDA-160EX
成膜 C2-108 ×
E00174 電子ビーム真空蒸着装置
VPC-1100
成膜 D3-106 ×
E00065 FIB:集束イオンビーム装置
NB5000
加工・エッチング EIIRIS 2F 共同研究室5
E00166 FIB:集束イオンビーム加工装置
Quanta 3D
加工・エッチング 教育研究基盤センター107
E00219 UV・オゾンクリーナー(CMOS用)
Model UV-300
半導体プロセス、表面処理 固体機能デバイス
E00220 UV・オゾンクリーナー(センサ/MEMS用)
Model UV-1
半導体プロセス、表面処理 VBL 1F
E00221 i線ステッパ
NSR-TFHi12CH
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00222 コンタクトマスクアライナ(2インチ自動ローディング)
PLA-501(F)
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00223 コンタクトマスクアライナ(2インチ自動ローディング)
PLA-501(F)
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00224 コンタクトマスクアライナ(2インチ手動ローディング)
PLA-501
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00225 コンタクトマスクアライナ(4インチ手動ローディング)
PLA-600
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00226 両面アライナ
PEM-800TG
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00227 両面アライナ
Micro Tec AG
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00228 プロジェクションアライナ
UX-2103SM
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00229 EB描画装置
JBX-6300DA
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00230 i線用レジスト塗布・現像装置
PRD4-000-07-2
半導体プロセス、転写・焼付 固体機能デバイス
E00202 CMOS用 酸化・アニール炉
MODEL272H-300H15X070H
半導体プロセス、成膜、熱処理 固体機能デバイス
E00203 水素アニール炉(CMOS用)
KTF773N-AS
半導体プロセス、成膜、熱処理 VBL 1F
E00204 水素アニール炉(Si汎用)
272M-200H15X070H
半導体プロセス、成膜、熱処理 固体機能デバイス
E00206 2段酸化炉(Al2O3/Si基板用、Si汎用)
半導体プロセス、成膜、熱処理 VBL 1F
E00207 化合物半導体用酸化炉(OEIC用)
KTF080N-PA WET
半導体プロセス、成膜、熱処理 VBL 1F
E00188 CMOS用Alスパッタ装置
直流スパッタシステム
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00189 マルチターゲットRFスパッタ装置(センサ/MEMS用)
C-7250
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00190 マルチターゲットRF/DCスパッタ装置(CMOS用)
E-400S
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00191 エピタキシャルPtスパッタ装置
SP150-HTS
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00192 酸化膜用スパッタ装置
E-200S
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00193 イオンコータ
VPS-050
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00194 VLS結晶成長用金蒸着装置
L-045E
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00195 プラズマCVD装置(CMOS用)
PD-220M
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00196 プラズマCVD装置(MEMSデバイス用)
PD-220NS
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00197 リフロー用プラズマCVD装置(CMOS用)
PD-220NLM
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00198 LPCVD装置(CMOS用)
DJ-11S689-M3
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00199 LPCVD装置(MEMS用)
DJ-11S689-M3
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00200 パリレンコータ
PDS2010
半導体プロセス、成膜 VBL 1F
E00231 レジストスプレーコーター
USC-2000
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00233 レジスト塗布用装置(マスク乾板・方形ウエハ用)
Delta+80RC
半導体プロセス、成膜 固体機能デバイス
E00244 CLSM:レーザー顕微鏡
OLS3100
半導体プロセス、顕微鏡 固体機能デバイス
E00245 SEM:低真空走査電子顕微鏡
Miniscope TM-1000
半導体プロセス、顕微鏡 固体機能デバイス
E00246 SEM:測長機能付き走査型電子顕微鏡
JSM-7100F
半導体プロセス、顕微鏡 固体機能デバイス
E00242 温度可変プローバ・計測器システム
半導体プロセス、計測 固体機能デバイス
E00243 ウエハープローバ・計測器システム
A-PM-50A  4155C
半導体プロセス、計測 固体機能デバイス
E00201 集束イオンビーム加工装置(FIB)
SMI3200TS
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00208 反応性イオンエッチング装置(MEMS F系ガス用)
RIE-200F
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00209 反応性イオンエッチング装置(MEMS Cl系ガス用)
RIE-200NL
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00210 反応性イオンエッチング装置(CMOS F系ガス用)
L-451D-L
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00211 反応性イオンエッチング装置(CMOS Cl系ガス用)
L-451D-L
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00212 Si深堀りエッチング装置(Deep-RIE)
MUC21-RD
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00213 誘導結合型反応性イオンエッチング装置(ICP-RIE)
CE-300I
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00214 Siエッチング装置(XeF2ガス)
Xetech E1-β
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00215 レジストアッシング装置(リモートプラズマ)
OPM-A1250
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00216 レジストアッシング装置(CMOS用)
PC-1100
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00217 レジストアッシング装置(MEMS用)
Model PX-250M
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00218 オゾンレジストアッシング装置
MPOG-ASI
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00232 ポジ型レジスト用現像装置
Delta+12AQ
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00236 Siウエハ用化学機械研磨装置(CMP装置)
ARW-461M
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00237 Siウエハ用枚葉式洗浄装置(ブラシスクラバー)
MAT ZAB-4S1M
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00241 陽極接合装置
HORIVAC-300S
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00247 Siウエハ用レーザーダイシング装置
ML200
半導体プロセス、加工・エッチング 固体機能デバイス
E00248 ダイシングソー
A-WD-10A
半導体プロセス、加工・エッチング VBL 1F
E00187 イオン注入装置
EXCEED2300SDV
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00205 リン拡散炉
272M-200H15X070H
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00234 バッチ式Siウエハ洗浄装置
4+4M
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00235 超臨界洗浄・乾燥装置
SCRD4
半導体プロセス VBL 1F
E00238 ワイヤーボンダー(Au)
West bond 7700D-79
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00239 ワイヤーボンダー(Al)
West bond 7476D
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00240 ダイボンダー
West bond 7327C-79
半導体プロセス 固体機能デバイス
E00113 マルチガスモニター
1302
環境分析 自然エネルギー棟107
E00114 加熱気化全自動水銀測定装置
MA-3000
環境分析 E2-108
E00124 ウエアラブルNIRS脳活動記録システム
WOT-220
脳活動計測 情報通信実験棟104
E00117 三次元動作解析システム
VICON612
動作解析 情報通信実験棟208
E00085 VSM:振動試料型磁力計
TM-VSM251483-HGC
磁化特性評価 C2-106
E00180 サーマルマネキン
L015
その他 D2-605